Infraestrutura

Através do site sites.google.com/site/wcorrer  você poderá consultar a disponibilidade de horário para o uso do microscópio. Também no site, deverá ser gerada uma requisição de serviço.

 

microscopia eletronica campusII

 

Agendamento

Após a consulta no site para os horários disponíveis e uma vez tendo requisitado o serviço, entre em contato com o técnico Wagner Correr através do telefone 3373-8715 ou pelo e-mail O endereço de e-mail address está sendo protegido de spambots. Você precisa ativar o JavaScript enabled para vê-lo. .

Dúvidas

Entre em contato com Wagner Correr através do telefone (16) 3373-8715 ou pelo e-mail O endereço de e-mail address está sendo protegido de spambots. Você precisa ativar o JavaScript enabled para vê-lo. .

forno resistivo queima rpida

 Nome do equipamento: Forno resistivo para queima rápida

 Descrição: Forno para queima rápida; possui abertura na parte superior, o que possibilita, quando necessário, também o resfriamento rápido. Pode ser  programado para ter um aquecimento rápido de até 60°C/min. Temperatura de trabalho: 1300°C. Modelo: FQR 1300/3, 15,6 KW, 330x150x340mm.

 
 
 

 

 

 

DRX

 Nome do equipamento: DRX

 Descrição: Difratômetro de Raios-X para caracterização estrutural de amostras. Modelo: ULTIMA IV, Rigaku. Possui monocromador de grafite e tubo de  Cu.

 
 
 

 

forno resistivo dissilicato molibdnio elevao

 Nome do equipamento: Forno Resistivo de Dissilicato de Molibdênio com Elevação

 Descrição: Forno para tratamento térmico de materiais diversos, operativo até 1700°C, com elevação. Fabricante: CM FURNACES, modelo 1710-L.

 
 
 
sistema medida eltrica ac dc baixa temperatura

 Nome do equipamento: Dip-Coating

 Descrição: A deposição de filmes neste laboratório pode ser feita por dip-coating, que consiste em um equipamento simples, provido de um motor de passo, que ao movimentar a alavanca em que está fixado o substrato, permite imergir o mesmo na solução (resina). A velocidade de retirada pode ser controlada por um botão de ajuste fino. Fabricante: QUIMIS

 
 
 
forno laser CO2 sinterizao cermica

 Nome do equipamento: Forno a Laser de CO2 para sinterização de cerâmicas

 Descrição: Este forno está sobre uma mesa xy e chega a temperatura máxima de aquecimento de 450°C. O equipamento fica acoplado a um laser de CO2 formando então o aparato para que seja realizada a sinterização de cerâmicas.

 
 
 
LHPG

 Nome do equipamento: LHPG

 Descrição: Possuem câmaras de puxamento de ambiente controlado acoplado a sistemas ópticas e a um laser inframermelho - um laser contínuo de CO2 de potência nominal de 100 e 125 W. A fabricação dos cristais se inicia com a conformação dos óxidos reagentes - chamado de pedestal -, a fusão do pedestal e o puxamento posterior. Processo totalmente microcontrolado.

 
 
 
forno induo radio frequencia vcuo

 Nome do equipamento: Forno por Indução de Rádio Frequência a Vácuo

 Descrição: Atua por indução via rádio frequência em que se pode realizar vácuo internamente. Elemento de aquecimento - grafite, que atua como    susceptor, onde a radiação eletromagnética é absorvida para ocorrer o aquecimento. Temperatura máxima para um termopar de controle do tipo B é de  1500°C. Pode chegar até 2000°C com a utilização de termopares do tipo C ou D.

 
 
 

 

forno resistivo crescimento cristais czochralski 23

 Nome do equipamento: Forno Resistivo para Crescimento de Cristais pelo método de Czochralski 23

 Descrição: Este é um forno de aquecimento com resistência que pode ser de grafite ou aço inox e trabalha em vácuo. Sua atual configuração de trabalho  permite que se atinjam temperatiras em torno de 1100°C (grafite).

 
 
 

 

fornos resistivos kanthal monocristais antimnio

 Nome do equipamento: Fornos Resistivos de Kanthal para preparação de Monocristais de Antimônio

 Descrição: São dois os fornos resistivos de Kanthal e chegam a uma temperatira de 1100°C. Utilizados para preparação de monocristais pelo método  Bridgman. Os fornos operam sob atmosfera inerte (Argônio) ou redutora (mistura de Hidrogênio e Argônio).

 
 
 
espectrometro absoro infravermelho FT-IR

 Nome do equipamento: Espectrômetro

 Descrição: Espectrômetro de absorção no infravermelho por meio da transformada de Fourier. O sistema trabalha tanto no BIR (15000-  1200 cm-1) como MIR (7500 - 370 cm-1). Também é possível a utilização no modo ATK (com cristal Ge) no intervalo de 5000 a 600 cm-1. Modelo: Vertex 70, fabricante Brucker.

 
 
 

 

microscpio ptico estgio quente

 Nome do equipamento: Microscópio Óptico com Estágio a Quente

 Descrição:  Microscópio óptico com estágio para alta temperatura (ambiente até 500x e objetiva com abertura numérica de 0,55). Modelo: Axio scope A1,  platina de aquecimento: Linkam, fabricante: Zeiss.

 
 
 

 

microscpio ptico infravermelho prximo

 Nome do equipamento: Microscópio óptico para infravermelho próximo

 Descrição: Microscópio com óptica especial para observação, tanto por reflexão como por transmissão de amostras na região do IR próximo (700 - 1000 nm). Modelo BX51 JR.

 
 
 
dilatmetro

 Nome do equipamento: Dilatômetro

 Descrição: Realiza Termodilatometria. Modelo: DIL 402 PC - NETZSCH  

 
 
 

 

DSC DTA

 Nome do equipamento: DSC/DTA

 Descrição: Análises de calorimetria exploratória diferencial e Análise Térmica Diferencial. Modelo: DSC 2910 - TA Instruments.

 
 
 

 

TG

 Nome do equipamento: TG

 Descrição: Realiza Termogravimetria. Modelo TG 209 - NETZSCH

 
 
 

 

TG DTA TG DSC tcnicas simultneas

 Nome do equipamento: TG-DTA e TG-DSC (Técnicas Simultâneas)

 Descrição: Realiza termogravimetria e análise térmica diferencial e também termogravimetria e análise de calorimetria exploratória diferencial. Modelo:  STA 409 - NETZSCH

 
 
 
ASAP BET

 Nome do equipamento: ASAP (B.E.T)

 Descrição: Realiza análise de área superficial específica de pós pelo método BET, por adsorção de nitrogênio. Modelo: ASAP 2020 - MICROMERITICS  utilizando o N2 como gás de adsorção/desorção.

 
 
 

 

sistema medida eltrica ac dc baixa temperatura

 Nome do equipamento: Porosímetro

 Descrição: Realiza análise de distribuição do tamanho médio de poros por intrusão de mercúrio metálico. Modelo: Pore Sizer 9320 - MICROMERITICS.

 
 
 

 

sistema medida eltrica ac dc baixa temperatura

 Nome do equipamento: Sistema de Medida Elétrica de caracterização AC ou DC em baixa temperatura

 Descrição: Sistema de medida elétrica para caracterização AC ou DC; Criostato Janis (CCS – 400 H/204); Controlador Temperatura Lakeshope 340 (10 Kelvin até 450 Kelvin

 
 
 

 

sistema medida histerese materiais diversos

 Nome do equipamento: Sistema de Medida de Histerese em Materiais Diversos

 Descrição: Fonte DC (Trec 609B), Trec; LC Meter (Precision LC), Radiant Tecnologies, INC

 
 
 

 

 

sistema medida eltrica caracterizao AC espectroscopia impedncia

 Nome do equipamento: Sistema de Medida Elétrica para caracterização AC (Espectroscopia de Impedância)

 Descrição: Impedancímetro (FRA SI 1260), SOLATRON; Interface Dielétrica (1296 A), SOLATRON

 
 
 

 

 

 

sistema medida eltrica caracterizao AC DC alta temperatura

 Nome do equipamento: Sistema de Medida Elétrica para caracterização AC ou DC em alta temperatura

 Descrição: Sistema de medida elétrica para caracterização AC ou DC; Forno Elétrico; Controlador de temperatura Eurotherm (CM 808), temperatura ambiente até 700°C

 
 
 

 

 

sistema medida eltrica caracterizao DC

 Nome do equipamento: Sistema de Medida Elétrica para caracterização DC

 Descrição: Electrometer (6514), Keithley; Fonte DC (228 A), Keithley ; Multímetro (3478 A), HP; Thermometer (740), Keithley